画像電子学会、日本印刷学会、日本画像学会、日本写真学会の画像４学会は、2012
年度合同研究会の理念を「PE・FD の基盤技術の深耕と新たな産業創成」とし、
大きな期待と注目をあびているフレキシブル・プリンテッドエレクトロニクスと
画像形成技術との接点における材料とプロセスの新たな産業応用について検討す
る研究会を企画しました。講師を含む参加者が自由に情報や意見の交換ができる
よう、講演終了後に情報交換会（無料）も設けましたので、奮ってご参加下さい
ますよう、ご案内申し上げます。

主催：(一社)日本写真学会（幹事学会）、(一社) 画像電子学会、(一社)日本印
刷学会、(一社)日本画像学会

日時：2012 年12 月10 日(月) 研究会 10:00〜17:30（受付開始:9:30）
情報交換会17:35〜19:30

場所：国立オリンピック記念青少年総合センター センター棟４Ｆ セミナーホール
東京都渋谷区代々木神園町3 番１号
（小田急線参宮橋駅徒歩７分 地下鉄千代田線代々木公園駅徒歩10
分）http://nyc.niye.go.jp/

参加費：主催・協賛学会会員10,000 円、主催・協賛学会学生5,000 円
非会員 15,000 円 （情報交換会有り、参加費無料）
＊参加費は当日会場でお支払いください。
＊共催・協賛学会会員の方は会員証又は学生証等をご提示下さい。

定員：２００人

申込方法：Web 上のフォームからお申し込み下さい。
E-mail、FAX による申込も可能です(氏名、所属、連絡先、会員有無を明記下さい）。
URL：http://www.spstj.org mail：spstj@pht.t-kougei.ac.jp

FAX：03-3299-5887

申込締切：2012 年11 月16 日(金)＊定員になり次第締め切らせて頂きます
協 賛(予定)：半導体産業新聞、日本化学会、応用物理学会、高分子学会、光化
学協会、電気化学会、有機合成化学協会、日本光学会、照明学会、日本色彩学
会、日本表面科学会、電気学会、色材協会、電子情報通信学会、映像情報メデ
イア学会、日本液晶学会、日本オプトメカトロニクス協会、繊維学会、ナノ学
会、フォトポリマー懇話会、化学工学会 、プラスチック成形加工学会、日本レオロ
ジー学会 、日本トライボロジー学会 、日本機械学会

【講演プログラム】

【�T．応用デバイス】
10:05〜10:50 「塗布印刷技術を用いたフレキシブルディスプレイの開発」
ソニー（株）コアデバイス開発本部 ディスプレイデバイス開発部門 野本和正

【�U．低温溶液プロセス適性のある材料：有機半導体】
11:00〜11:45 「液晶性を活用した高耐熱性とプロセス適性をあわせもつ可溶性
高移動度有機トランジスタ材料の開発」
東京工業大学大学院 理工学研究科附属像情報工学研究所 半那純一
11:45〜12:30 「低温塗布できる高性能有機半導体単結晶AM-TFT」
大阪大学産業技術研究所 竹谷純一

【�V．低温溶液プロセス適性のある材料：無機配線材料】
13:30〜14:15 「プリンテッドエレクトロニクスにおける導電配線材料の現状と
課題」
(株)アルバックコーポレートセンター ナノパーティクル応用開発部 小田正明
14:15〜15:00 「印刷法による有機基板上への銅膜形成技術について」
日立化成工業(株) 筑波総合研究所高機能性材料開発センター 神代 恭
15:00〜15:45 「プリンテッドエレクトロニクス電極基盤材料開発とその産業化
に向けた取り組み」
山形大学理学部物質生命科学科物質構造化学講座 栗原正人

【�W．微細画像形成技術への期待と課題】
15:55〜16:40 「インクジェット技術が創るデジタルパタ-ンニングプロセス」
コニカ ミノルタＩＪ(株) 開発統括部 Industrial-PT 西 眞一
16:40〜17:25 「乾燥プロセスによる薄膜構造制御」
東京大学大学院工学系研究科化学システム工学専攻 山口由岐夫
17:35〜19:30 情報交換会 講演終了後、情報交換会をレセプションホールで開催
いたします。
＊テーマ及び講師については、予告なく変更する場合がございます。あらかじめ
ご了解願います。

【問合せ先】：〒164-8678 東京都中野区本町2-9-5 東京工芸大学内 日本写真学
会(幹事学会)事務局
E-mail：spstj@pht.t-kougei.ac.jp Tel：03-3373-0724 Fax： 03-3299-5887